Feltru di grafite dolce à semiconduttore
U feltru di grafite dolce à semiconduttore Semixlab hè un materiale d'isolamentu termicu d'alta purezza è resistente à e alte temperature, specificamente cuncipitu per prucessi di fabricazione di semiconduttori stabili è efficienti in termini di energia chì operanu in cundizioni termiche estreme. Stu materiale hè adattatu per sistemi avanzati di forni è reattori, chì serve diverse applicazioni di semiconduttori à alta temperatura cum'è i prucessi di crescita di monocristalli di carburo di siliciu (SiC), a diffusione à alta temperatura, i prucessi di ricottura è di sinterizzazione, è ancu i prucessi epitassiali di SiC è GaN. Ghjoca un rolu cruciale in u mantenimentu di a stabilità di u campu termicu, a minimizazione di a perdita di calore è a prutezzione di l'attrezzatura. Accolgimu e vostre dumande.
Description
U Feltru di Grafite Morbida à Semiconduttore hè un materiale di gestione termica di alta purezza è resistente à e alte temperature, specificamente cuncipitu per i prucessi di fabricazione di semiconduttori in cundizioni termiche estreme. In l'apparecchiature avanzate di semiconduttori, in particulare quelle aduprate per a crescita di cristalli di carburo di siliciu (SiC), l'epitassia è u trattamentu termicu à alta temperatura, un cuntrollu precisu di l'ambiente termicu hè criticu per e prestazioni di u prucessu è a qualità di u materiale. U Feltru di Grafite Morbida di Semixlab serve cum'è materiale d'isolamentu termicu principale è di stabilizazione di u campu termicu in questi sistemi esigenti.
In i prucessi di crescita di monocristalli di SiC cum'è u Trasportu Fisicu di Vapore (PVT), u feltro di grafite ghjoca un rolu cruciale in a stabilizazione di u campu termicu di u fornu. U feltro di grafite serve cum'è stratu isolante è tampone intornu à i crogioli è e zone di riscaldamentu, minimizendu a perdita di calore radiale è assiale mentre liscia i gradienti di temperatura in a camera di crescita. Questu ambiente termicu cuntrullatu hè vitale per mantene un equilibriu stabile di sublimazione-ricristallizazione, cù un impattu direttu nantu à a velocità di crescita di i cristalli, a densità di difetti è a stabilità di a crescita à longu andà. A struttura dolce è facilmente modellabile di u feltro di grafite permette un adattamentu precisu à e geometrie cumplesse di u fornu, ottenendu cundizioni termiche ripetibili durante cicli di crescita estesi.
Per i prucessi di diffusione, ricottura è sinterizzazione à alta temperatura cumuni in a fabricazione di semiconduttori, u feltru di grafite dolce di semiconduttori serve cum'è un mezu d'isolamentu termicu affidabile, mantenendu l'integrità strutturale sottu cicli termichi ripetuti. Operendu in u vacuum o in atmosfere inerti à temperature tipicamente superiori à 2000 °C, l'isolamentu dolce riduce a perdita di calore di u gusciu di u fornu, migliora l'efficienza energetica è prumove una distribuzione uniforme di a temperatura in a zona di prucessu. A so bassa conducibilità termica è l'eccellente resistenza à i shock termichi minimizanu u stress nantu à l'apparecchiature è i materiali trasfurmati, assicurendu risultati consistenti è allungendu a durata di vita di l'apparecchiature.
In i prucessi d'epitassia di SiC è GaN, i reattori epitassiali operanu tipicamente à alte temperature chì necessitanu cundizioni assai stabili. U feltru di grafite morbidu migliora a stabilità termica è l'isolamentu ambientale in i cumpunenti di u reattore. Cum'è materiale d'isolamentu internu è di buffer termicu, prumove una distribuzione uniforme di a temperatura è minimizza l'interferenza termica esterna, migliurendu indirettamente l'uniformità di u stratu epitassiale è a ripetibilità di u prucessu. L'alta purezza di u feltru di grafite di Semixlab hè particularmente cruciale in questi ambienti, postu chì aiuta à mantene e cundizioni di prucessu pulite è minimizza u risicu di contaminazione involuntaria chì puderia compromettere a qualità di u film epitassiale.
U Feltru di Grafite Morbida per Semiconduttori di Semixlab hè fabbricatu cù materiali precursori di carbone di prima qualità è prucessi di fabricazione di precisione, cumbinendu resistenza à alta temperatura, bassa conducibilità termica è flessibilità meccanica eccezziunale. Queste proprietà permettenu un funziunamentu stabile à longu andà in ambienti di fabricazione di semiconduttori esigenti, offrendu al contempo una facile installazione, furmazione è integrazione senza soluzione di continuità in vari disinni di forni è reattori. Sfruttendu l'expertise di Semixlab in materiali semiconduttori avanzati è soluzioni termiche, questu pruduttu serve cum'è materiale fundamentale indispensabile per i prucessi di semiconduttori à alta temperatura. In listessu tempu, Semixlab s'impegna à furnisce cunsultazioni tecniche prufessiunali è soluzioni di prudutti persunalizate à i clienti mundiali. Aspittemu sinceramente di diventà u vostru cumpagnu à longu andà per l'isolamentu termicu è i materiali di stabilizazione di u campu termicu in l'industria di i semiconduttori in Cina.
quaternu di carichi
| Scheda tecnica per u feltro di grafite dolce | ||||
| Index | Unit | Serie XF-C Feltro Morbido | ||
| XF-008 | XF-013 | |||
| Basatu annantu à u rayon | Basatu in pan | |||
| foltu | g / cm3 | 0.08-0.11 | 0.12-0.14 | |
| Forza di cumpressione | MPa | / | / | |
| (1000 ℃) / Cunduttività termica | W / mK | 0.15 | 0.24 | |
| Cendra (prima purificata) | ppm | ≤200 | ≤500 | |
| Temperatura di trasfurmazione | ℃ | 2400 ° C | 2400 ° C | |
| Temperatura massima di serviziu | ℃ | 3000 ° C | 3000 ° C | |
| Dimension | mm | Larghezza: ≤1600, Spessore: 5-10 | ||
| Candidatura | Fotovoltaicu, Semiconduttore, Fornu di sinterizazione, Fornu metallurgicu | |||
| Quì sopra per i prudutti standard. Sè i prudutti di purezza ultra-alta sò richiesti, devenu esse purificati à ≤20ppm. | ||||
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