Barca SiC d'alta purezza

U supportu di carburo di siliciu (SiC) d'alta purità hè un supportu ceramicu d'alta prestazione cuncipitu per i prucessi di semiconduttori à alta temperatura, a crescita di cristalli è u trattamentu termicu di precisione. Hè sinterizatu cù materiale SiC d'altissima purità è hà una eccellente resistenza à alta temperatura, resistenza à i shock termichi è stabilità chimica. Hè largamente utilizatu in a diffusione di semiconduttori, CVD, epitaxia LED è crescita di monocristalli fotovoltaici.

E pruposte:

A barca SiC d'alta purezza hè un consumabile chjave per u prucessu di semiconduttori, utilizatu principalmente per trasportà è trasferisce wafer in ambienti à alta temperatura, è hè largamente utilizatu in i prucessi di diffusione, ossidazione, ricottura è CVD di wafer di siliciu. Hè particularmente adatta per i prucessi à alta temperatura di semiconduttori di terza generazione (cum'è SiC/GaN) è dispositivi di putenza.

Servizii chì ponu esse furniti:

analisi di scenarii d'applicazione di i clienti, materiali abbinati, risoluzione di prublemi tecnichi.

Profil di Cumpagnia:

Semixlab hà 2 laburatorii, una squadra di esperti cù 20 anni di sperienza in i materiali, cù capacità di R&S è di pruduzzione, di prova è di verificazione.

login tecnica

Campi d'applicazione principali

Appruvazione di verificazione di a catena ecologica

A verificazione di a catena ecologica di Semixlab High-Purity SiC Boat copre e materie prime finu à a pruduzzione, hà passatu a certificazione standard internaziunale è hà una quantità di tecnulugie brevettate per assicurà a so affidabilità è sustenibilità in i campi di i semiconduttori è di e nuove energie.

Prucessu di candidatura tipicu

Preparazione di a Materia Prima (Polvere di SiC d'Alta Purezza) → Prucessu di Furmazione (Stampatura à Seccu/Stampatura Isostatica) → Prucessu di Sinterizzazione → Lavorazione è Finitura Superficiale (Rettifica/Lucidatura CNC, Incisione Chimica, Ricottura) → Purificazione è Rivestimentu CVD → Cuntrollu di Qualità → Imballaggio

Grazie à l'ottimisazione di i parametri di prucessu d'avanguardia, u disignu strutturale unicu di Semixlab High-Purity SiC Boat garantisce una eccellente stabilità di i wafer riducendu significativamente u risicu di contaminazione da particelle. A so durata di vita pò ghjunghje à 5-8 volte quella di i wafer tradiziunali di quarzu, ciò chì ne face una suluzione ideale per u trattamentu di wafer à alta temperatura. Questa innovazione li permette di rimpiazzà gradualmente l'impurtazioni in u mercatu di i semiconduttori, furnendu una suluzione domestica à alte prestazioni è à bon pattu.

Per specifiche tecniche dettagliate, documenti bianchi, o accordi di test di campioni, cuntattate a nostra squadra di supportu tecnicu per scopre cumu Semixlab pò migliurà l'efficienza di u vostru prucessu.

Vantaghji di u core di a barca in SiC d'alta purezza di Semixlab

1. Purezza estrema (vantaghju chjave)

A barca SiC d'alta purità Semixlab hà una purezza ultra-alta (≥99.9999%), è u cuntenutu d'impurità (Fe, Al, Na, ecc.) hè cuntrullatu à u livellu di 1 ppm per evità a contaminazione di wafers o materiali epitassiali, chì hè particularmente adatta per a fabricazione di semiconduttori SiC/GaN.

2. Inerzia chimica (resistenza à a currusione)

Resistente à l'erosione acida, alcalina/plasma, è pò resiste à i gasi currusivi cum'è HF, HCl, H2 (cum'è i prucessi di incisione di semiconduttori). Nisuna liberazione di gas à alte temperature.

3. Resistenza meccanica è durata di vita

Durezza ultra-alta, eccellente resistenza à l'usura, riduce u risicu di spargimentu di particelle è allunga a vita di serviziu (di solitu da 3 à 5 volte quella di una barca di quarzu). Ùn si deforma micca facilmente à alte temperature, mantenendu a planarità di u wafer (cum'è a deformazione in un fornu di diffusione <0.1 mm).

4. Compatibilità di u prucessu

Adattabile à una varietà di ambienti difficili, atmosfere di ossidazione/riduzione (cum'è O2, H2, Ar) è prucessi di rivestimentu CVD/PVD. A superficia pò esse persunalizata, cum'è a lucidatura (Ra<0.1μm) o u rivestimentu (cum'è SiO2) per riduce ulteriormente a contaminazione.