Anellu di grafite rivestitu di carbone piroliticu
L'anelli di grafite rivestiti di carbone piroliticu di Semixlab sò cuncepiti per ambienti di epitaxia di semiconduttori à alta temperatura induve a stabilità termica, u cuntrollu di a purità è a cunsistenza di u prucessu sò critichi. Cuncepiti cù un rivestimentu di carbone piroliticu densu nantu à substrati di grafite di alta purità, sti cumpunenti furniscenu una eccellente resistenza chimica, una bassa generazione di particelle è una uniformità termica superiore durante a trasfurmazione di i wafer. Cuntattate Semixlab oghje per esplorà suluzioni persunalizate di grafite rivestita di carbone piroliticu per e vostre applicazioni di epitaxia di semiconduttori.
Description
L'anellu di grafite mostratu quì hè adupratu in l'attrezzatura di crescita di cristalli di carburo di siliciu. Hè generalmente installatu intornu à a zona di u campu termicu in l'internu di u fornu è funziona inseme cù altre parti di grafite durante u prucessu di crescita di i cristalli.
Stu tipu d'anellu hè cumunamente adupratu in i sistemi di crescita PVT induve a temperatura di u fornu ferma estremamente alta per longhi periodi. A causa di l'ambiente operativu, l'utilizatori di solitu rimpiazzanu l'anellu dopu un certu numeru di cicli invece di aduprà lu permanentemente.
U materiale di basa hè grafite machinata cù un stratu superficiale PyC. In paragone cù a grafite micca trattata, a superficia rivestita hè più stabile durante u funziunamentu à alta temperatura è hè menu prubabile di liberà particelle in a camera.
In a pruduzzione pratica, parechji clienti compranu questi anelli ripetutamente cum'è parte di a manutenzione di rutina di u fornu è di a pianificazione di a pruduzzione.
Cumpressu di Produse

Stratu di superficia PyC
Un rivestimentu di carbone piroliticu hè applicatu à a superficia di grafite per migliurà a stabilità in cundizioni di alta temperatura.
Per a crescita di cristalli di SiC
Principalmente adupratu in forni di crescita di cristalli di carburo di siliciu è sistemi di campu termicu cunnessi.
Cundizione di superficia stabile
U rivestimentu aiuta à mantene una superficia di travagliu più pulita durante i cicli di riscaldamentu longhi.
Pruduzzione in lotti ripetuta
E stesse specifiche ponu esse furnite continuamente per i clienti chì operanu parechji forni.
Machinazione secondu i disegni
A dimensione è a struttura ponu esse aghjustate secondu i diversi disinni di forni.
Pruduzzione è fornitura
Diverse strutture di fornu richiedenu diverse cunfigurazioni di grafite, dunque a maiò parte di l'anelli sò prudutti secondu i disegni di i clienti o i campioni esistenti.
Durante a fabricazione, e dimensioni è u spessore di u rivestimentu sò verificati prima di a spedizione. Per i clienti chì utilizanu grandi quantità in pruduzzione cuntinua, a ripetibilità stabile trà i lotti hè di solitu una di e preoccupazioni principali.
Certi utilizatori ordinanu solu uni pochi di pezzi per pruvà, mentre chì altri compranu quantità più grande regularmente per un usu di pruduzzione à longu andà.
Semixlab
Semixlab furnisce prudutti di grafite è di grafite rivestita utilizati in l'industrie di semiconduttori è di crescita di cristalli. I prudutti ponu esse fabbricati secondu i requisiti di l'applicazione, a struttura di u fornu è e specificazioni di u cliente.
quaternu di carichi
Information tecnica
| Parametru di Rivestimentu di Carboniu Piroliticu (PyC) | ||
| Item | Unit | valore |
| Struttura di Cristallu | Hexagonal | |
| infilarata di | Orientatu o micca orientatu longu a direzzione 001 | |
| Bulk Densità | g / cm3 | ~ 2.25 |
| Microstruttura | Grafene policristallinu/multistrato | |
| durezza | GPa | 1.2 |
| Modulus elasticu | GPa | 11 |
| Spessore tipicu | um | 30±5um |
| Surface Roughness | um | 1.5 |
| Purità di u produttu | ppm | ≤5ppm |
Travaux
-Crescita di cristalli di carburo di siliciu
-Sistemi di forni PVT
-Assemblaggi di grafite di campu termicu
-Componenti di fornu à alta temperatura
-Parti cunsumabili in grafite
U nostru Services

Negoziu di prudutti Semixlab


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