Quartz Ring 150mm

Cum'è un cumpunente espostu à u plasma, l'anellu di quarzu hè cuncipitu per operà in ambienti à alta energia mantenendu a stabilità strutturale è a cunsistenza di u prucessu.

Informazioni chjave di u produttu

Materiale è Vantaghji

L'anellu di quarzu AMAT 150 mm hè fabbricatu da quarzu fusu di qualità semiconduttore (SiO₂), un materiale largamente ricunnisciutu per e so eccellenti prestazioni in ambienti di trasfurmazione di plasma.

Vantaghji principali di u quarzu fusu:

Cuntaminazione Ultra Bassa

U quarzu d'alta purezza cuntene livelli estremamente bassi d'impurità metalliche, minimizendu u risicu di contaminazione di e wafer è supportendu i standard avanzati di fabricazione di semiconduttori.

Eccellente resistenza à u plasma

U quarzu offre una forte resistenza à u bumbardamentu ionicu è à l'erosione di u plasma, ciò chì u rende adattatu per un usu à longu andà in camere di sputtering è di plasma.

Alta stabilità termica

U materiale mantene a so integrità strutturale sottu à alte temperature è cicli termichi rapidi, assicurendu prestazioni consistenti durante a trasfurmazione.

Insulazione Elettrica

Cum'è un materiale micca conduttivu, u quarzu aiuta à stabilizà u campu elettricu in a camera, cuntribuendu à una distribuzione uniforme di u plasma.

Inerzia chimica

U quarzu hè resistente à i gasi reattivi utilizati in i prucessi di semiconduttori, riducendu a degradazione è allungendu a vita di i cumpunenti.

Queste proprietà rendenu u quarzu fusu un materiale ideale per i cumpunenti di a camera esposti à u plasma è à e cundizioni di alta temperatura.

Funzione in l'attrezzatura semiconduttore

L'anellu di quarzu AMAT 150 mm svolge parechje funzioni critiche in e camere di trasfurmazione di plasma, chì anu un impattu direttu nantu à a stabilità di u prucessu è a qualità di i wafer.

1. Cunfinamentu è cuntrollu di u plasma

L'anellu di quarzu aiuta à definisce a regione di cunfine di u plasma, cuntrullendu a distribuzione di l'ioni è stabilizendu u cumpurtamentu di u plasma in a camera. Questu cuntribuisce à cundizioni di prucessu ripetibili è coerenti.

2. Ottimizazione di l'uniformità di i bordi

Posizionatu vicinu à u bordu di a cialda, l'anellu ghjoca un rolu impurtante in:

● Regulazione di a densità di u plasma à u perimetru di a cialda

● Riduzzione di l'effetti di bordu

● Migliurà l'uniformità di l'incisione o di a deposizione

Questu hè essenziale per mantene u cuntrollu di a dimensione critica (CD) è u rendimentu generale di a cialda.

3. Prutezzione di a Camera

Cum'è un cumpunente sacrificale, l'anellu di quarzu assorbe:

● Materiali sputterizzati

● Sottoprodotti di incisione

● Esposizione à u plasma

Questu aiuta à prutege i cumpunenti critichi di a camera cum'è i muri metallichi, i rivestimenti è i mandrini elettrostatici da danni è contaminazione.

4. Migliuramentu di a Stabilità di u Prucessu

Mantenendu una geometria è proprietà di u materiale coerenti, l'anellu di quarzu supporta:

● Modelli di flussu di gas stabili

● Interazione di plasma cuntrullata

● Generazione ridotta di particelle

Questu porta infine à una migliore ripetibilità di u prucessu è à una riduzione di i tempi di inattività.